我实验室段辉高教授受邀在第60届三束加工国际会议上作报告

    近日,我实验室段辉高教授受第60届三束加工国际会议组委会邀请,在美国匹兹堡报道其课题组最新在高分辨、高效率电子束加工上取得的突破性进展。报告吸引了150余位来自世界各地学术机构及著名企业科研人员的关注并获得了广泛的赞赏,会后多个本领域知名的课题组表达了合作的愿望。段辉高教授的出色工作也吸引了不少在美国求学的中国留学生主动找其了解湖南大学的科研基础设施和人才引进政策,表达了将来加盟湖南大学的意愿。


    据悉,这是本系列会议六十年来第一次邀请来自大陆学术机构的学者作特邀报告。
    三束加工国际会议是微纳米图形加工与制造领域每年一届的顶级学术会议,自上世纪50年代以来已经连续举办了60届。参加此会的主要是来自半导体企业界和学术界的科研人员,会议主题聚焦于电子束、离子束以及光子束图形加工以及相关应用技术。本次会议为期4天,一共有来自包括Intel、IBM、麻省理工学院、加州理工学院、剑桥大学、普林斯顿大学、美国林肯国家实验室等企业和研究机构的400余人参加。
    三束微纳米图形加工是现代微纳米科技的核心技术,段辉高教授自2005年起长期聚焦于高分辨电子束图形加工方面的工作,其博士学位论文“10纳米以下图形电子束曝光的研究”曾获全国百篇优秀博士学位论文,在微纳米图形加工及器件应用方向获得了3次国家自然科学基金的支持并发表相关论文10余篇。本次会议报道的内容是段辉高教授近期发明的线描曝光技术,该技术有望大幅度提高多尺度微纳米图形的加工分辨率和效率,在集成电路光刻掩膜板加工、光电子器件制造以及纳米结构物理研究等领域中具有广泛的应用价值。